Składniki - Nacomi Next lvl punktowy krem przeciwdziałający niedoskonałościom 30 ml
Aqua, Propanediol, Cetyl Alcohol, Persea Gratissima Oil, Caprylic/Capric Triglyceride, Cetearyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Butyrospermum Parkii Butter, Niacinamide, Prunus Amygdalus Dulcis Oil, Shorea Stenoptera Seed Butter, Tocopheryl Acetate, Sorbitol, Stearic Acid, Adansonia Digitata Seed Oil, Serine, Algin, Pullulan, Trehalose, Urea, Allantoin, Olea Europaea Fruit Oil, Ascorbyl Palmitate, Phytosterols, Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Lactic Acid, Glycerin, Ethylhexylglycerin, Raspberry Ketone, Sorbitan Oleate, Benzyl Glycol, Caprylyl Glycol, Disodium Phosphate, Polyglyceryl-3 PCA, Pentylene Glycol, Glyceryl Polyacrylate, Parfum, Potassium Phosphate, Sodium Lauroyl Glutamate, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol.
Charakterystyka - Nacomi Next lvl punktowy krem przeciwdziałający niedoskonałościom 30 ml
- Opracowana z myślą o działaniu miejscowym formuła kremu redukuje niedoskonałości i przynosi uczucie ukojenia.
- Połączenie składników aktywnych Elestab™, bisabololu i kwasu glicyretynowego sprawia, że krem działa antybakteryjnie oraz przyspiesza eliminację zmian skórnych.
- Zmniejsza widoczność zaskórników i przebarwień potrądzikowych oraz zapobiega ich ponownemu powstawaniu.
- Zawarty niacynamid dodatkowo łagodzi podrażnienia oraz pomaga w regeneracji skóry.
- Krem wzbogacony o trehalozę utrzymuje prawidłowy poziom nawilżenia cery oraz zwiększa jej elastyczność.
Stosowanie - Nacomi Next lvl punktowy krem przeciwdziałający niedoskonałościom 30 ml
Nakładaj punktowo rano i/lub wieczorem na pojedyncze zmiany skórne twarzy. Delikatnie wmasuj i pozostaw do całkowitego wchłonięcia. Unikaj kontaktu z oczami. Produkt do użytku zewnętrznego. Nie stosuj na uszkodzoną/ podrażnioną skórę. Zaprzestań stosowania przy wystąpieniu reakcji niepożądanych.
Informacje dodatkoweW razie pytań lub wątpliwości służymy Państwu pomocą pod adresem
sklep@cefarm24.pl.